Amaç: Bu çalışmanın amacı üniversal bağlayıcı ajanların makaslama bağlanma dayanımını farklı adeziv stratejilerde değerlendirmek ve
geleneksel bağlayıcı ajanlarla karşılaştırmaktır.
Gereç ve Yöntem: Yetmiş adet çürüksüz insan üçüncü büyük azı dişleri seçildi ve adezive ve uygulanacak stratejiye göre 7 gruba ayrıldı;
Single Bond Universal self-etch (SBUSe) ve etch-and-rinse (SBUEr), All Bond Universal self-etch (ABUSe) ve etch-and-rinse (ABUEr),
Adper Single Bond 2 (ASB), Clearfil SE Bond (CSE) ve Futurabond M (FBM). Dişlerin üzerlerine restorasyonlar yapıldı ve 370C/24 saat
distile su içerisinde bekletildi. Makaslama bağlanma dayanımı testleri bir üniversal test cihazı yardımıyla 0.5 mm/dk. hızında gerçekleştirildi.
Elde edilen verilerin analizleri tek yönlü varyans analizi ve Duncan testi ile yapıldı (α=0.05).
Bulgular: SBU ve ABU adeziv sistemler için dentin yüzeyine fosforik asit uygulanması bağlanma dayanımı önemli derecede arttırmıştır.
FBM dışındaki self-etch stratejiler arasında istatistiksel olarak bir fark bulunmadı. Tüm adeziv sistemler içersinde en düşük MPa değerleri
FBM göstermiştir (p<0.05).
Sonuç: Bu çalışmanın sonuçları doğrultusunda bu yeni tür üniversal bağlayıcı ajanların etch-and-rinse olarak tercih edilebilir.
Objective: The aim of this study was to evaluate the shear bond strength of universal adhesive under different strategies and to compare with
the conventional bonding systems.
Methods: Seventy sound human third molars selected and divided into 7 groups according to the adhesive and strategy: Single Bond
Universal self-etch (SBUSe) and etch-and-rinse (SBUEr), All Bond Universal self-etch (ABUSe) and etch-and-rinse (ABUEr), Adper Single
Bond 2 (ASB), Clearfil SE Bond (CSE) and Futurabond M (FBM). Build-ups were constructed and specimens were stored in distilled water
(370C/24h). Shear bond strength test were performed with a universal test machine at a crosshead speed of 0.5 mm/min. Data were analyzed
with one-way ANOVA and Duncan test (α=0.05).
Results: Prior to phosphoric acid etching significantly increased bond strength of the SBU and ABU. There was no statistically a difference
between self-etch strategies SBUSe, ABUSe and CSE except FBM. FBM showed the lowest mean MPa in all adhesives (p<0.05).
Conclusion: It can be concluded that using of the new class of universal adhesives as etch-and-rinse should be preferred.
